阳图型的PS版晒版工艺流程如下：
曝光→显影→整理→涂擦显影墨→擦胶
曝光：见光部分的感光层由原来稀碱不溶变成稀碱可溶，未见光部分的感光层，保持稀碱不溶的性质。
显影：用稀碱溶液将见光部分可溶的感光层，溶解掉，露出亲水基础，未见光部分的感光层仍保留在版面形成图文部分。
整理：视版面洁净情况，分别用除脏，修刮，补加等方法进行修整，使其达到印刷要求。
涂擦显影墨：在图文部分涂擦显影黑墨达到增大版面的反差、保护图文部分的感光层不受损害以及增加版面吸墨性的目的。
擦胶：涂擦阿拉伯树胶，防止印版氧化。