简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？ -题库考试答案搜索网

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

问答题

2021-12-22 14:44

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正确答案

1.光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去并得到所需图形的工艺。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或金属薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形，从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的，它是晶圆加工过程的中心，为后面的刻蚀和离子注入做准备。决定了芯片的性能，成品率，可靠性。

试题解析

标签：半导体芯片制造高级工半导体芯片制造工

感兴趣题目

线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标，目前芯片制造的主流技术中线宽为（）。

光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

某半导体静态存储器芯片的地址线为A12～A0，数据线D3～D0，若组成容量为64KB存储器，需要该种存储芯片的片数为（）

某半导体静态存储器芯片的地址线为A12~AO，数据线为D7~DO，若组成容量为32KB存储器，需要该种存储芯片的片数为（）

某半导体静态存储器芯片的地址线为A12-AO，数据线为D3~DO，若组成容量为64KB存储器，需要该种存储芯片的片数为（）

某半导体静态存储器芯片的地址线为A13一AO，数据线为D7一DO，若组成容量为32KB存储器，需要该种存储芯片的片数为（）

在微型计算机中将运算器和内存集成在一篇半导体芯片上，这种芯片就称作微处理器。

Dell电脑公司与上游的芯片和主板制造商的合作方式属于（）。

Dell电脑公司与上游的芯片和主板制造商的合作方式属于（）。

利用导体对磁场作相对运动时，导体中产生感应电动势的原理所制造的电机是（）。

按照制造工艺可分为半导体集成电路、薄膜集成电路和（）集成电路。

集成运放制造工艺使得同类半导体管的（）。

相关题目: 智能功率模块（IPM）指的是该电路至少把逻辑控制电路和功率半导体管集成在（）芯片上。; 在半导体制造工艺中往往把减薄、划片、分片、装片、内引线键合和管壳封装等一系列工艺称为（）。; 单晶硅棒和PN结的制造技术等，与（）以及（）等半导体制造技术有较多共同部分，且历史悠久，实际业绩突出。; 简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？; 简述在芯片制造中对金属电极材料有什么要求？; 最早用于制造太阳能电池的半导体材料是（）。; 下列（）不是半导体存储器芯片的性能指标。; 衡量半导体存储器的最重要的指标是存储器芯片的（）和存储速度。; Cache存储器一般采用SRAM半导体芯片，而主存条主要由( )半导体组成。; 半导体存储器芯片的存储容量取决于该芯片的（）总线的条数和（）总线的位数。; 半导体存储器芯片的译码驱动方式有几种？; 已知某半导体存储芯片的地址线为12根，则此存储器的存储容量为（）; 以半导体芯片为存储介质的设备（）。; 世界上最大的半导体芯片制造商是（）。; 80C51芯片采用的半导体工艺是（）。; 半导体芯片制造工艺对水质有什么要求？; 半导体芯片制造工艺对气体有什么要求？; 用于半导体照明的芯片技术的发展主流是什么？; 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）; 制造二极管、三极管的主要半导体材料是（）。

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