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说明RCA清洗硅片的方法，SC-1和SC-2的配方特点

问答题

2022-04-30 14:06

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正确答案

SC-1去除有机残余物，金属
SC-2去除碱金属离子，氢氧根。
根据不同的应用，SC-1和SC-2前后顺序也可颠倒。如果晶片表面不允许有氧化物存在，则需加入氢氟酸清洗这一步。它可以放在SC-1和SC-2之前进行，或者在两者之间，或者在RCA清洗之后。

试题解析

标签：大学试题工学

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