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一般介电层ILD的形成由那些层次组成?

问答题
2022-05-09 13:27
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正确答案
① SiON层沉积(用来避免上层B,P渗入器件);
② BPSG(掺有硼、磷的硅玻璃)层沉积;
③ PETEOS(等离子体增强正硅酸乙脂)层沉积;
最后再经ILD Oxide CMP(SiO2的化学机械研磨)来做平坦化。

试题解析

标签: 大学试题 工学
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