用EDTA标准溶液滴定某浓度的金属离子M，若没有副反应则被滴定液中的pM值（即未生成EDTA配合物的金属离子浓度的负常用对数值），在化学计量点后，由（）来计算。

配位剂的浓度越大，生成的配合物的配位数就越大。

配位化合物的内界由（）和（）组成；它是配合物的特征部分。

配位反应的条件稳定常数能反映配合物的实际稳定程度。

能形成无机配合物的反应虽然很多，但由于大多数无机配合物的稳定性不高，而且还存在分步配位的缺点，因此能用于配位滴定的并不多。

配体有单齿配体和多齿配体，多齿配合物的稳定性高于单齿配合物。

无机结合料稳定材料的配合比设计是以（）饱水抗压强度作为标准。

化工厂按（）分类，可分为无机和有机化工厂。

二水溴化二溴四水合钴（Ⅲ）的化学式是（）， 配合物的中心离子是（）。配位体是（），中心离子的配位数是（），配离子的电荷数是（）

根据晶体场理论，判断高自旋配合物的判据为（）。

对配体L为P（CH3）3和P（t-Bu）3的配合物Mo（CO）3L3的合成而言，更易形成稳定配合物的配体是（），原因为（）。

属于无机无毒物的有（）。