在等离子体源离子注入中,当负高压脉冲(幅值V)加到金属靶上时,靶表面附近电子立即被排斥出鞘层区域,由于离子质量大,没有来得及运动,留下一个均匀的离子鞘层,设离子密度为常数n, 并假设在鞘层边界电场和电势为零,求平板、柱形和球形靶鞘层内电场和电势分布,以及鞘层厚度表达式。
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