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有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法?

问答题
2021-12-22 14:43
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正确答案

常压化学气相淀积(APCVD.,
低压化学气相淀积(LPCVD.,
等离子体辅助CVD。


试题解析

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智能功率模块(IPM)指的是该电路至少把逻辑控制电路和功率半导体管集成在(      )芯片上。

单晶硅棒和PN结的制造技术等,与()以及()等半导体制造技术有较多共同部分,且历史悠久,实际业绩突出。
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有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法?
在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。
最早用于制造太阳能电池的半导体材料是()。
下列()不是半导体存储器芯片的性能指标。
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Cache存储器一般采用SRAM半导体芯片,而主存条主要由( )半导体组成。
半导体存储器芯片的存储容量取决于该芯片的()总线的条数和()总线的位数。
半导体存储器芯片的译码驱动方式有几种?
已知某半导体存储芯片的地址线为12根,则此存储器的存储容量为()
以半导体芯片为存储介质的设备()。
世界上最大的半导体芯片制造商是()。
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半导体芯片制造工艺对气体有什么要求?
用于半导体照明的芯片技术的发展主流是什么?
半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.()
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